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勻膠顯影系統(tǒng)的生產(chǎn)工藝流程

發(fā)布時間: 2018-08-27  點擊次數(shù): 3056次
  勻膠顯影系統(tǒng)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮氣)等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。蝕刻/顯影/清洗全套系統(tǒng)還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。勻膠顯影系統(tǒng)是在半導體集成電路生產(chǎn)線中用于對基片進行涂膠、顯影工藝的關(guān)鍵設備。
  勻膠顯影系統(tǒng)主要用于光刻工藝前后的勻膠與顯影步驟,是微納加工的重要組成部分。勻膠顯影系統(tǒng)典型的生產(chǎn)工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)。
  勻膠顯影系統(tǒng)特性優(yōu)點:
  1.主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
  2.全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果
  3.可實現(xiàn)多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干
  4.控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便
  5.顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置
  6.提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設計
  7.高可靠性和重復性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
  8.可添加去邊膠和背膠清洗功能
  勻膠顯影系統(tǒng)設備適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般涂膠顯影機由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成。
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